Mediachance Pattern Studio v5.2.3 可用于服装设计图书封面设计 - 11 September 2009 - ystyle paltform
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Mediachance Pattern Studio v5.2.3 可用于服装设计图书封面设计
  • 软件语言: 英文
  • 软件大小: 34.00MB
  • 软件类别: 国外软件 | 图像制作
  • 运行环境: Win9x/Me/NT/2000/XP/2003/Vista
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    Mediachance.Pattern.Studio 一款纹理和模式设计工具,可用于服装设计,图书封面设计等。
     
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    Name:www.piaodown.com
    Serial:8970-6197-4092-2109
    Views: 818 | Added by: ystyle | Rating: 5.0/1
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